保障措置設計のための分子法レーザー同位体分離プロセスのシミュレーション解析

岡本 毅*; 西村 秀夫

JAERI-M 89-098, 42 Pages, 1989/08

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分子法レーザー同位体分離技術を用いた濃縮プラントは、高度に先端技術を駆使したプラントとなるので、このプラントに対する保障措置システムの設計は、核不拡散上並びに商業上機微な情報を保護するとともに有効で効率的な保障措置を実現するという相矛盾する要請を共に満たす必要性から、困難な課題である。本報告では、まず、このようなプラントに対する保障措置設計のためのアプローチについて検討し、既存の理論及びデータのみに立脚したプロセスモデルの開発とこのモデルを用いた保障措置の設計を中心とするアプローチを提言した。次に、このアプローチに沿った研究の第一歩として、当該濃縮プロセスである赤外多光子解離過程の内、光選択励起反応のダイナミックスを数値モデルを用いて計算機でシミュレーションを行い、モデルプラントのプロセス設計のための基礎データを得た。